GENEVA, Jan. 17 -- INNOSTAR SEMICONDUCTOR (SHANGHAI) CO., LTD. (Room 304, Building 13, No.1211 Hongyin Road, Lingang New AreaChina (Shanghai) Pilot Free Trade Zone Pudong New DistrictShanghai 201306), 昕原半导体(上海)有限公司 (中国上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号13幢304室) filed a patent application (PCT/CN2024/134229) for "GATING TRANSISTOR MANUFACTURING METHOD" on Nov 25, 2024. With publication no. WO/2026/011647, the details related to...
Click here to read full article from source
इस लेख के रीप्रिंट को खरीदने या इस प्रकाशन का पूरा फ़ीड प्राप्त करने के लिए, कृपया
हमे संपर्क करें.