INTERNATIONAL PATENT: THE UNIVERSITY OF OSAKA, 国立大学法人大阪大学, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIGHER EDUCATION AND RESEARCH SYSTEM, 国立大学法人東海国立大学機構, SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED, 住友化学株式会社, PANASONIC HOLDINGS CORPORATION, パナソニックホールディングス株式会社 FILES APPLICATION FOR "METHOD FOR ETCHING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR"

GENEVA, March 18 -- THE UNIVERSITY OF OSAKA (1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka5650871), 国立大学法人大阪大学 (大阪府吹田市山田丘１番１号), NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIGHER EDUCATION AND RESEARCH SYSTEM (1, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya-shi, Aichi4648601), 国立大学法人東海国立大学機構 (愛知県名古屋市千種区不老町１番), SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED (2-7-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo1036020), 住友Ô...