INTERNATIONAL PATENT: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED, セントラル硝子株式会社, TOKYO ELECTRON LIMITED, 東京エレクトロン株式会社 FILES APPLICATION FOR "ETCHING METHOD, ETCHING DEVICE AND GAS FOR FORMING PROTECTIVE FILM"

GENEVA, June 3 -- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED (5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi7550001), セントラル硝子株式会社 (山口県宇部市大字沖宇部５２５３番地), TOKYO ELECTRON LIMITED (3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo1076325), 東京エレクトロン株式会社 (東京都港区赤坂五丁目３番１号) filed a patent application (PCT/JP2024/039266) for "ETCHING METHOD, ETCHING DEVICE, AND GAS FOR FORMING PROTECTIVE FILM" on Nov 05, 2024. Wi...